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| 我國的專利授權(quán)“門檻”將進一步得到提高 |
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| 2008-08-26 陳菲 馮磊磊 來源:經(jīng)濟參考報 |
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據(jù)新華社北京8月25日電
25日首次提請全國人大常委會審議的專利法修正案草案摒棄了現(xiàn)行專利法關(guān)于專利授權(quán)條件“相對新穎性標(biāo)準(zhǔn)”，而采用了“絕對新穎性標(biāo)準(zhǔn)”。這意味著我國的專利授權(quán)“門檻”將進一步提高。
根據(jù)現(xiàn)行專利法的規(guī)定，一些沒有公開發(fā)表過的技術(shù)，雖然在國外已經(jīng)被公開使用或者已經(jīng)有相應(yīng)的產(chǎn)品出售，只要在我國國內(nèi)還沒有人公開使用或者沒有相應(yīng)的產(chǎn)品出售，就可以在我國授予專利，從而導(dǎo)致我國專利質(zhì)量不高。這既不利于激勵自主創(chuàng)新，也妨礙了國外已有技術(shù)在我國的應(yīng)用。
為此，專利法修正案草案采用了“絕對新穎性標(biāo)準(zhǔn)”：規(guī)定授予專利權(quán)的發(fā)明創(chuàng)造在國內(nèi)外都沒有為公眾所知。此外，為進一步提高外觀設(shè)計專利的質(zhì)量，草案還規(guī)定：對平面印刷品的主要起標(biāo)識作用的設(shè)計不授予專利權(quán)。 |
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